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Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : systematischer kommentar /

Corporate Authors:	Heymann, Germany (West
Other Authors:	Nastelski, Karl, Reimer, Eduard
Format:	Book
Language:	German
Published:	Koln: C. Heymann, 1968
Edition:	3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.]
Subjects:	Patent laws and legislation > Germany (West) Models (Patents) > Germany (West)

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