Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : systematischer kommentar /

Corporate Authors: Heymann, Germany (West
Other Authors: Nastelski, Karl, Reimer, Eduard
Format: Book
Language:German
Published: Koln: C. Heymann, 1968
Edition:3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.]
Subjects:
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250 |a 3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.] 
260 |a Koln:  |b C. Heymann,  |c 1968 
300 |a xxx, 2505 σ. ;  |c 24 εκ. 
504 |a Βιβλιογραφία: σ. [xiii]-xix 
650 0 |a Patent laws and legislation  |z Germany (West) 
650 0 |a Models (Patents)  |z Germany (West) 
700 1 |a Nastelski, Karl 
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